苏州恒松解析：半导体工业电子超纯水设备设计方案介绍，半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为 18Mù.cm、15Mù.cm、10Mù.cm、2Mù.cm、0.5Mù.cm，以区分不同水质。  

电子工业超纯水设备特点  

电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器实验室纯水设备，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。  
电子工业超纯水的应用领域  
1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水;  
2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水;  
3、实验室和中试车间用超纯水;  
4、汽车、家电表面抛光处理;  
5、光电子产品;  
6、其他高科技精微产品;  
工业电子超纯水设备工艺流程说明：  
1、第一级预处理系统：采用石英砂多介质过滤器，主要目的是去除源水中含有的泥沙、铁锈、胶体物质、悬浮物等颗粒在20m以上对人体有害的物质，系统可以自动(手动)进行反冲洗，正冲洗等一系列操作。  
2、第二级预处理系统：采用果壳活性碳过滤器，目的是为了去除水中的色素、异味、生化有机物、降低水的余氯值及农药污染和其他对人体有害的污染物。系统可以自动(手动)进行反冲洗，正冲洗等一系列操作。  
3、第三级预处理系统：采用阳树脂对水进行软化，主要是降低水的硬度，去除水中的钙、镁离子(形成水垢的主要成分)，可有效延长反渗透膜的使用寿命，并可进行智能化树脂再生。  
4、第四级预处理系统：采用5um孔径精密过滤器，使水得到进一步的净化，使水的浊度和色度达到优化。保证RO系统进水条件要求，保证设备的产水质量，延长设备的使用寿命。  
5、反渗透(超滤)设备主机：采用反渗透(超滤)技术进行深度脱盐处理(进口美国反渗透膜)去除钙镁、铅、汞等对人体有害的重金属物质及其他杂质，降低水的硬度，脱盐率达99%以上，生产出符合国家标准的纯净水。  
6、微过滤装置：安装该装置主要是为防止微粒树脂颗粒从布水中滤出实验室纯水设备，造成二次水质污染，这主要是运用在对水质特别高的场合。  
杀菌系统：采用臭氧发生器(或紫外线杀菌器)，减少细菌二次污染，灭菌率可达99%以上，同时臭氧溶于水形成富氧水，保证水的纯鲜。采用水气混合器使臭氧充分与水混合，达到最佳浓度比。  

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